1. The chemistry of metal CVD /
المؤلف: edited by Toivo T. Kodas and Mark J. Hampden-Smith
المکتبة: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع: Chemical vapor deposition,Electronic circuit design,Metallic films
رده :
TK7867
.
C46
1994
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)